特許

J-GLOBAL ID：200903072788133428

光励起性被膜または光触媒性親水性被膜を形成するための下地処理剤

発明者： 菅野 充誠 ,  山本 政宏 ,  則本 圭一郎 ,  吉田 理郎 ,  鋒山 昌弘
出願人/特許権者： 東陶機器株式会社 ,  三洋化成工業株式会社
代理人 (1件)： 佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP1999003010
公開番号（公開出願番号）：WO1999-063011
出願日： 1999年06月04日
公開日（公表日）： 1999年12月09日
要約：

【要約】基材表面を被覆して、その上に光励起性被膜または光触媒性親水性被膜を形成するための下地処理剤であって、界面活性剤および溶剤を少なくとも含有してなり、前記界面活性剤が、非イオン性界面活性剤、フッ素系界面活性剤、またはこれらの混合物であり、前記溶剤が、沸点180〜235°Cの水溶性溶剤、炭素数1〜4のアルコール類、水、またはこれらの二種以上の混合物である、下地処理剤を用いる。これによって、乗物筺体、建築構造物などの塗装表面、樹脂、木材などの有機基材表面、あるいは、ガラス、鏡、レンズ、石材などの無機基材表面に中間層を形成させるにあたって、ハジキ現象が起こらず均一で薄い中間層が形成できる。

請求項（抜粋）：

基材表面を被覆して、その上に光励起性被膜または光触媒性親水性被膜を形成するための下地処理剤であって、 界面活性剤および溶剤を少なくとも含有してなり、 前記界面活性剤が、非イオン性界面活性剤、フッ素系界面活性剤、またはこれらの混合物であり、 前記溶剤が、沸点180〜235°Cの水溶性溶剤、炭素数1〜4のアルコール類、水、またはこれらの二種以上の混合物である、下地処理剤。

IPC (5件)：

C09D 5/00 ,  B05D 7/24 301 ,  C08J 7/04 ,  C09K 3/00 ,  B01J 35/02

FI (5件)：

C09D 5/00 D ,  B05D 7/24 301 Z ,  C08J 7/04 E ,  C09K 3/00 R ,  B01J 35/02 J