特許
J-GLOBAL ID：200903072816971876
処理装置および処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
深見 久郎 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-058347
公開番号（公開出願番号）：特開2000-254603
出願日： 1999年03月05日
公開日（公表日）： 2000年09月19日
要約：
【要約】【課題】 処理液液表面13に浮遊する異物80を処理槽11内から排出し、被処理物200の処理液中からの取出し時などに生じる異物80の付着を防止する。【解決手段】 表面張力低下流体90を処理液液表面13に供給するなどの表面張力不均一化手段によって、処理液液表面13内に表面張力の差を生じさせる。この表面張力の差によって生じる流動によって、浮遊する異物80を越流部17などの排出手段によって効率良く排出する。この結果、従来淀みがちであった被処理物上方も含めて、処理液液表面13は常に正常に保つことができ、被処理物200への異物80の付着も防止することができる。
請求項（抜粋）：
被処理物を収容し、処理液中に浸せきして処理するための処理槽と、前記処理液を液表面の高さにおいて排出するための排出手段と、前記液表面内の表面張力を不均一にするための表面張力不均一化手段とを備える、処理装置。
IPC (2件)：
B08B 3/08
, H01L 21/304 642
B08B 3/08 A
, H01L 21/304 642 A
3B201AA02
, 3B201AA03
, 3B201AB03
, 3B201AB42
, 3B201BB02
, 3B201BB04
, 3B201BB05
, 3B201BB87
, 3B201BB93
, 3B201BB94
, 3B201BB95
, 3B201BB98
, 3B201CB01
