特許
J-GLOBAL ID：200903072817530431
セラミック基板の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 成示 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-165702
公開番号（公開出願番号）：特開平8-032201
出願日： 1994年07月19日
公開日（公表日）： 1996年02月02日
要約：
【要約】【目的】 セラミック基板の外周部のエッジに起因するスクリーン、搬送ローラ又はスキージ等の傷や破損を低減できるセラミック基板の製造方法を提供する。【構成】 上パンチ4uとこの上パンチ4uに対向する下パンチ4dとを備えたグリーンシート金型4の、上記上パンチ4uと下パンチ4dとの間にグリーンシート5を導入し、このグリーンシート5を打ち抜いてピース5pを得、このピース5pを焼成するセラミック基板の製造方法において、上記上パンチ4uと下パンチ4dとに突条4tを有し、この突条4tの内面4nが、グリーンシート5から離れるに従って、上パンチ4uと下パンチ4dの仮想中心線9に近づく傾斜面である。上記突条4tの高さが5〜300μmで最大幅が5〜1000μmである。
請求項（抜粋）：
上パンチ(4u)とこの上パンチ(4u)に対向する下パンチ(4d)とを備えたグリーンシート金型(4)の、上記上パンチ(4u)と下パンチ(4d)との間にグリーンシート(5)を導入し、このグリーンシート(5)を打ち抜いてピース(5p)を得、このピース(5p)を焼成するセラミック基板の製造方法において、上記上パンチ(4u)と下パンチ(4d)とに突条(4t)を有し、この突条(4t)の内面(4n)が、グリーンシート(5)から離れるに従って、上パンチ(4u)と下パンチ(4d)の仮想中心線(9)に近づく傾斜面であることを特徴とするセラミック基板の製造方法。
IPC (2件)：
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