特許

J-GLOBAL ID：200903072818598056

シリコン膜形成用の高次シラン含有溶液

発明者： 矢野 幸太郎 ,  橘野 裕 ,  田沢 昇一 ,  川崎 計二
出願人/特許権者： 昭和電工株式会社
代理人 (1件)： 寺田 實
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-342682
公開番号（公開出願番号）：特開平6-191821
出願日： 1992年12月22日
公開日（公表日）： 1994年07月12日
要約：

【要約】【目的】 塗膜法によるシリコン膜形成に用いることのできる高次シラン含有溶液を提供する。【構成】 高次シランと特定の有機溶剤とから成るシリコン膜形成用の溶液。

請求項（抜粋）：

一般式SinH2n+2(但し、nはn≧2の整数)で表される高次シランを、有機溶剤に溶解させたシリコン膜形成用の高次シラン含有溶液において、該溶媒中の全高次シラン濃度(全高次シラン重量/(全高次シラン重量+溶剤重量)×100)が0.1〜50重量%であり、有機溶剤としてCaHb(但し、aは3≦a≦16、bは8≦b≦34の整数)で表される飽和炭化水素類、不飽和炭化水素類、芳香族類あるいはCdHeOf(但し、dは2≦d≦16、eは6≦e≦34、fは1≦f≦3の整数)で表されるエーテル類、あるいはこれらの混合溶剤を用いることを特徴とするシリコン膜形成用の高次シラン含有溶液。

IPC (2件)：

C01B 33/04 ,  H01L 21/205