特許
J-GLOBAL ID：200903072821682831
露光装置及び露光方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
恩田 博宣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-361575
公開番号（公開出願番号）：特開平11-195579
出願日： 1997年12月26日
公開日（公表日）： 1999年07月21日
要約：
【要約】【課題】 感光基板の露光面の表面状態を観察でき、露光動作中に露光面の歪みによる異常ショットの発生を把握可能な露光装置及びその露光方法を提供する。【解決手段】 ウェハWの露光面Wf上に二次元的に広がる測定点AFij(i=1〜5、j=1〜9)を設定する。その各測定点AFijに対応するように、各測定点AFijの投影光学系の光軸と平行な方向の位置を測定する複数の受光センサを設ける。各測定点AFijの内、所定のサンプル点AFijについて、それらの位置情報を平均化し、合わせ込み面となる近似平面APFを求める。その近似平面APFと前記各サンプル点AFijとの距離を算出し、最大の距離と最小の距離との差が所定のしきい値を超える場合には、そのショット領域が異常ショット領域であると判定する。
請求項（抜粋）：
マスク上のパターンを照明する照明光学系と、前記マスク上のパターンを感光基板上に投影する投影光学系と、その投影光学系の光軸に交差するように前記感光基板を保持する基板ステージと、前記感光基板の露光面を所定の合わせ込み面に合わせ込む合焦機構とを備えた露光装置において、前記感光基板の露光面上における複数の測定点に関する前記投影光学系の光軸と平行な方向の位置を測定する測定手段と、その測定手段の測定結果と所定のしきい値とを比較する比較手段と、その比較手段の比較結果に応じて前記位置の測定される露光範囲が異常なものであるか否かを判定する判定手段とを備えた露光装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 526 B
, G03F 7/23 H
