特許
J-GLOBAL ID：200903072831375104
光磁気ディスクの製造方法及び光磁気ディスク
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-227733
公開番号（公開出願番号）：特開平8-096431
出願日： 1994年09月22日
公開日（公表日）： 1996年04月12日
要約：
【要約】【構成】 光学的に透明な基板上の記録層側に、シート転写法により有機保護層を形成して光磁気ディスクを製造する方法において、該記録層上に硬化型樹脂を均一に塗布した後、前記樹脂とフレキシブルな型を重ね合せる工程及び樹脂を硬化させる工程を8×103 Pa以下の真空中で行なう製造方法と、これにより得られる光磁気ディスクを提供する。【効果】 本発明方法により、従来のシート転写法における有機保護膜への気泡混入を防止可能となった。有機保護膜形成のための硬化樹脂材料の選択範囲が拡がるとともに、得られる光磁気ディスクの耐久性の向上、及び生産性の向上が実現できた。
請求項（抜粋）：
光学的に透明な基板上の記録層側に、シート転写法により有機保護層を形成してなる光磁気ディスクの製造方法において、前記記録層上に硬化型樹脂を均一に塗布した後、前記樹脂とフレキシブルな型を重ね合わせる工程及び前記樹脂を硬化させる工程を8×103 Pa以下の真空中で行なうことを特徴とする光磁気ディスクの製造方法。
IPC (3件)：
G11B 11/10 541
, G11B 11/10 511
, G11B 11/10 521
