特許

J-GLOBAL ID：200903072834305182

回折光学素子及びその製造方法

発明者： 玉森 研爾 ,  小楠 誠
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 日比谷 征彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-178914
公開番号（公開出願番号）：特開2001-004821
出願日： 1999年06月24日
公開日（公表日）： 2001年01月12日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 回折パターン側面への反射防止膜の成膜を防止する。【解決手段】 表面を洗浄したSi基板41上に、8層のAl膜42と7層のSiO2膜43から成る積層膜を形成する(b)。Al膜42h上にレジスト膜44を形成し(c)、レチクル45aをマスクとして露光し(d)、レチクル45aのパターンがレジスト膜44に転写されてパターン化され、レジストパターン44aを形成する。次に、Al膜42hをSiO2膜43gの表面が露出するまでエッチングする(e)。更に、異方性エッチングが可能な反応性イオンエッチング装置に装着し、SiO2膜43gをAl膜42gの表面が露出するまでエッチングする(f)。その後、レジストパターン44aを除去し、Si基板41上に2段の段差を有するパターンを形成する(g)。又、再度(c)と同様にパターン上にレジスト膜44を形成し(h)、同様の工程を繰り返すことにより、8段の反射型回折光学素子を作成する。

請求項（抜粋）：

任意の材料から成る基板上に、反射膜と該反射膜以外の任意の材料との積層膜で構成される断面が階段状の回折パターンから成ることを特徴とする回折光学素子。

IPC (2件)：

G02B 5/18 ,  G03F 7/20 501

FI (2件)：

G02B 5/18 ,  G03F 7/20 501

Fターム (12件)：

2H049AA07 ,  2H049AA33 ,  2H049AA37 ,  2H049AA44 ,  2H049AA46 ,  2H049AA48 ,  2H049AA63 ,  2H097AB09 ,  2H097CA12 ,  2H097EA03 ,  2H097EA12 ,  2H097LA17