特許
J-GLOBAL ID：200903072835341700
磁気記録媒体およびその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山田 稔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-030720
公開番号（公開出願番号）：特開平5-234050
出願日： 1992年02月18日
公開日（公表日）： 1993年09月10日
要約：
【要約】【目的】 コンピュータの外部記憶装置などに用いられる磁気記録媒体において、高い保磁力Hcを維持しながら保磁力角形比S* を向上し、高記録密度で、磁気特性の良い磁気記録媒体を実現する。【構成】 スパッタ法により、非磁性の基板上にCr下地層およびCo系磁性層を順次成膜し、製造される磁気記録媒体において、スパッタガスに酸素を0.3〜1.0モル%添加し、基板に負のバイアス電圧が印加して成膜を行うことにより、1400〜2500エルステッドの高い保磁力Hcを維持しながら、0.94〜1.0と保磁力角形比S* を向上することができる。
請求項（抜粋）：
非磁性の基板上にCr下地層を介してCo系磁性層が積層された磁気記録媒体において、1400〜2500エルステッドの保磁力Hcと、0.94〜1.0の保磁力角形比S* とを有することを特徴とする磁気記録媒体。
IPC (2件)：
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