特許

J-GLOBAL ID：200903072836883833

ポリ(p-ヒドロキシ-α-メチルスチレン)の製造方法

発明者： 渡辺 修 ,  山田 素行 ,  八木橋 不二夫
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 滝田 清暉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-209662
公開番号（公開出願番号）：特開平6-032819
出願日： 1992年07月14日
公開日（公表日）： 1994年02月08日
要約：

【要約】【目的】 高解像度及び高現像度のレジスト材料用ポリマーとして優れると共にポリマーブレンド剤等にも好適な、任意の分子量に制御することができる単分散性のポリ(p-ヒドロキシ-α-メチルスチレン)の新規な製造方法を提供すること。【構成】 下記化1で表されるメトキシメトキシ-α-メチルスチレンをリビングアニオン重合した後、メトキシメトキシ基を脱離させることを特徴とする単分散性のポリ(p-ヒドロキシ-α-メチルスチレン)の製造方法。【化1】

請求項（抜粋）：

下記化1で表されるメトキシメトキシ-α-メチルスチレンをリビングアニオン重合した後、メトキシメトキシ基を脱離させることを特徴とする単分散性のポリ(p-ヒドロキシ-α-メチルスチレン)の製造方法。【化1】

IPC (2件)：

C08F 8/12 MGF ,  C08F 12/22 MJY