特許
J-GLOBAL ID:200903072848872799
特定成分の濃度測定方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
岩橋 文雄 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-075732
公開番号(公開出願番号):特開2003-270131
出願日: 2002年03月19日
公開日(公表日): 2003年09月25日
要約:
【要約】【課題】 濃度測定用接触子が飲料物等の付着により汚れている場合であっても高精度に特定成分の濃度を測定することが可能な測定方法を提供する。【解決手段】 光源、濃度測定用接触子及び光検出器を備えた濃度測定装置を用い、測定対象物に接した濃度測定用接触子に光源からの光を入射させ、濃度測定用接触子から測定対象物に入射し伝播した後帰還した光量を光検出器で計測する工程、測定対象物と離れた濃度測定用接触子に光源からの光を入射させ、濃度測定用接触子から出射した後帰還した光量を光検出器で計測する工程、上記工程での計測結果に基づき測定対象物中の特定成分濃度を算出する工程を含む方法。
請求項(抜粋):
光源、濃度測定用接触子及び光検出器を備えた濃度測定装置を用い、測定対象物に接した状態の前記濃度測定用接触子に前記光源から出射した光を入射させ、前記濃度測定用接触子から前記測定対象物内に入射し、前記測定対象物内を伝播した後前記濃度測定用接触子に帰還した光の光量を前記光検出器により計測する工程A、前記測定対象物と離れた状態の前記濃度測定用接触子に前記光源から出射した光を入射させ、前記濃度測定用接触子から前記濃度測定用接触子外に出射した後、前記濃度測定用接触子に帰還した光の光量を前記光検出器により計測する工程B、並びに前記工程A及び前記工程Bにおいて計測された結果に基づいて、前記測定対象物に含まれる特定成分の濃度を算出する工程Cを含む特定成分の濃度測定方法。
IPC (4件):
G01N 21/27
, A61B 5/145
, G01N 21/21
, G01N 21/35
FI (4件):
G01N 21/27 C
, G01N 21/21 Z
, G01N 21/35 Z
, A61B 5/14 310
Fターム (29件):
2G059AA01
, 2G059BB12
, 2G059BB14
, 2G059CC16
, 2G059DD01
, 2G059DD02
, 2G059EE02
, 2G059EE05
, 2G059GG04
, 2G059GG10
, 2G059HH01
, 2G059HH06
, 2G059JJ01
, 2G059JJ19
, 2G059KK01
, 2G059MM01
, 2G059MM05
, 2G059MM14
, 2G059NN01
, 2G059PP04
, 4C038KK00
, 4C038KK10
, 4C038KL05
, 4C038KL07
, 4C038KM01
, 4C038KX01
, 4C038KX02
, 4C038KY03
, 4C038KY04
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