特許

J-GLOBAL ID：200903072868587403

高温ポリベンズアゾール及びポリエーテル電解質

発明者： ナラング,サブハツシユ ,  ベンチユラ,スザンナ ,  クールプ,ギヤリー
出願人/特許権者： エス・アール・アイ・インターナシヨナル
代理人 (1件)： 川口 義雄 (外5名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-506630
公開番号（公開出願番号）：特表2003-503599
出願日： 2000年06月21日
公開日（公表日）： 2003年01月28日
要約：

【要約】高温ポリベンズアゾール及びポリエーテルポリマー電解質が提供される。高温ポリベンズアゾールポリマー電解質は、ベンゾビスオキサゾール、ベンゾビスチアゾール、ベンゾビスイミダゾール、ジフルオロジスルホン化フェニル環またはスルホン化ビスフェニルエーテルを含み得る。高温ポリエーテルポリマー電解質は、ペルスルホン化フェニル環、置換フェニル環または置換ビフェニルスルホニル環系を含み得る。

請求項（抜粋）：

構造1、2または3の少なくとも1つから成り、構造1は 【化1】〔式中、nは1-100,000の範囲であり、Arは式 【化2】のベンゾビスアゾールであり、ここに、XはO、SまたはNH、YはHであるかまたはXがOのときはFである〕で表され、構造2は 【化3】〔式中、nは1-100,000の範囲であり、Arは式 【化4】のベンゾビスアゾールであり、ここに、YはFまたはHであり、ZはOまたはC(CF3)2である〕で表され、構造3は 【化5】〔式中、nは1-100,000であり、Arは式 【化6】の置換フェニルまたは置換ビスフェニルスルホニルであり、ここに、QはSO3HまたはFであり、m=0-3である〕で表されることを特徴とする高温ポリマー電解質。

IPC (4件)：

C25B 13/08 305 ,  C08G 65/40 ,  C08G 73/06 ,  H01B 1/06

FI (4件)：

C25B 13/08 305 ,  C08G 65/40 ,  C08G 73/06 ,  H01B 1/06 A

Fターム (16件)：

4J005AA24 ,  4J043PA02 ,  4J043PC186 ,  4J043QC02 ,  4J043RA42 ,  4J043RA52 ,  4J043RA57 ,  4J043SA06 ,  4J043SA82 ,  4J043UA121 ,  4J043UA122 ,  4J043UA562 ,  4J043UA592 ,  4J043ZB60 ,  5G301CA30 ,  5G301CD01

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 電極膜
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平6-513651   出願人：フラウンホーフェル-ゲゼルシャフトツルフェデルングデアアンゲバンツテンフォルシュンクエ-.ファウ.
• プロトン伝導性ポリマー
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平8-514813   出願人：ケースウェスタンリザーブユニバーシティ