特許
J-GLOBAL ID：200903072888109184
ウェハ真空吸着装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-110211
公開番号（公開出願番号）：特開平6-326174
出願日： 1993年05月12日
公開日（公表日）： 1994年11月25日
要約：
【要約】【目的】同一のウェハ真空吸着装置において、ウェハのオリフラ部の向きにより、ウェハに不均等な真空吸着力が作用しないような構造とし、ウェハを高精度(高平面度)で吸着保持すること。【構成】ウェハ真空吸着は、セラミック等を母材とする基板の上に、ウェハ外周リム1とその内側の気密性を維持するウェハ内周リム2と、ウェハのオリフラ部の形状と同等の直交する2箇所に設けられたオリフラリム3と円柱状の突起5とウェハ6を真空吸着するための各々独立した真空路および真空金具8で構成されている。また、ウェハ外周リム1とオリフラリム3で囲まれたオリフラ真空室9と外周真空室10と、ウェハ内周リム2に囲まれた内周真空室11で構成されている。
請求項（抜粋）：
ウェハのオリフラ部の形状と同等のリム(土手)を、直交する2方向に2箇所所有し、各々独立した真空路を有することを特徴とするウェハ真空吸着装置。
IPC (3件)：
H01L 21/68
, H01L 21/027
, B23Q 3/08
