特許
J-GLOBAL ID：200903072896861286
斜め蒸着方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大川 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-304636
公開番号（公開出願番号）：特開平10-147858
出願日： 1996年11月15日
公開日（公表日）： 1998年06月02日
要約：
【要約】【課題】斜め蒸着膜を形成できる新規な斜め蒸着方法を提供すること。【解決手段】粒子供給源16に対して基体14を高速で相対移動させて、基体14の基体面14aに沿って粒子の相対運動条件を作り出し、粒子を基体面14aに斜めに入射させ、斜めに堆積させる。
請求項（抜粋）：
蒸着方法により基体の基体面に斜めに粒子を堆積させる方法であって、粒子供給源に対して前記基体を高速で相対移動させて、前記基体の基体面に沿った粒子の相対運動条件を作り出し、粒子を前記基体面に斜めに堆積させることを特徴とする斜め蒸着方法。
引用特許：
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