特許

J-GLOBAL ID：200903072923785309

ジアリール化合物の製造方法

発明者： 林 誠一
出願人/特許権者： 日本化薬株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-213378
公開番号（公開出願番号）：特開2001-039898
出願日： 1999年07月28日
公開日（公表日）： 2001年02月13日
要約：

【要約】【課題】安価で、毒性の少ない試薬を使ったジアリール化合物の製造法を提供すること。【解決手段】炭化水素系の芳香族性化合物と下記式(2)で示される超原子価ヨウ素化合物Φ I(OR1)(OSO2R2) (2)(式中、R1は水素原子、メチル基、エチル基又はプロピル基を表し、R2はメチル基、トリフルオロメチル基、フェニル基又はトリル基を表し、Φは置換基を有しててもよいフェニル基、トリル基、クメニル基、キシリル基、メシチル基、ナフチル基を示す。)を反応させることを特徴とするジアリール化合物の製造法。

請求項（抜粋）：

一般式(1)Ar-H (1)(式中、Arは置換基を有しててもよいフェニル基、ナフチル基、インデニル基、アントラセニル基、フェナントリル基、ピレニル基又はフルオレニル基を示す。)で表されるアリール化合物に、一般式(2)で示される超原子価ヨウ素化合物Φ I(OR1)(OSO2R2) (2)(式中、R1は水素原子、メチル基、エチル基又はプロピル基を表し、R2はメチル基、トリフルオロメチル基、フェニル基又はトリル基を表し、Φは置換基を有しててもよいフェニル基、トリル基、クメニル基、キシリル基、メシチル基又はナフチル基を示す。)を反応させることを特徴とする、一般式(3)Ar-Ar (3)(式中、Arは式(1)におけるもと同じものを示す。)で表されるジアリール化合物の製造方法。

IPC (7件)：

C07C 2/04 ,  B01J 31/02 103 ,  C07C 15/14 ,  C07C 15/24 ,  C07C 15/27 ,  C07C 15/38 ,  C07B 61/00 300

FI (7件)：

C07C 2/04 ,  B01J 31/02 103 Z ,  C07C 15/14 ,  C07C 15/24 ,  C07C 15/27 ,  C07C 15/38 ,  C07B 61/00 300

Fターム (25件)：

4G069AA08 ,  4G069BA21A ,  4G069BA21B ,  4G069BE36A ,  4G069BE37A ,  4G069DA08 ,  4G069FB77 ,  4H006AA02 ,  4H006AC23 ,  4H006BA37 ,  4H006BA44 ,  4H006BA45 ,  4H006BA52 ,  4H006BB12 ,  4H006BB15 ,  4H006BB17 ,  4H006BB21 ,  4H006BB25 ,  4H006BJ50 ,  4H006FC52 ,  4H006FC54 ,  4H006FC56 ,  4H039CA19 ,  4H039CG90 ,  4H039CL11