入浴装置および消毒システム

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：志賀正武 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-267800
公開番号（公開出願番号）：特開2003-070867
出願日： 2001年09月04日
公開日（公表日）： 2003年03月11日
要約：

【要約】【課題】消毒のために薬剤供給濃度の設定が可能な入浴装置を提供する。【解決手段】浴槽3と、浴槽3内の湯の循環及び濾過を行う循環装置5と、浴槽3および循環装置5内部および浴槽3中の湯の消毒をおこなうための薬剤を供給可能な薬剤供給装置Cl,Pc,C1,C2と、を備え、循環装置5は、浴槽3内の湯を循環させる循環配管回路内に設けられる水ポンプ12と、水ポンプ12の後段に設けられて水ポンプ12から送られる浴槽3内の湯を濾過するフィルタ13とを備え、循環配管回路11のフィルタ13前段に薬剤を供給可能な薬剤供給位置C2が設定され、薬剤供給位置C2に薬剤供給装置Cl,Pcが接続されてなる。

請求項（抜粋）：

浴槽と、該浴槽内に気泡を噴出可能とする気泡噴出装置と、前記浴槽内部,前記気泡噴出装置および/または前記浴槽中の湯の消毒をおこなうための薬剤を供給可能な薬剤供給装置と、を有する入浴装置であって、前記気泡噴出装置が、前記浴槽底部付近に設けられた噴出部と、該噴出部に対して気体を送出するバブラーと、これら噴出部とバブラーとを連結する配管回路とを具備するものとされ、前記薬剤供給装置が、前記配管回路において、気泡を噴出していないときに前記浴槽中の湯が流通可能な位置に前記薬剤を供給可能な薬剤供給位置が設定され、該薬剤供給位置に前記薬剤供給装置が接続されてなることを特徴とする入浴装置。

IPC (10件)：

A61H 33/00 , A47K 3/00 , A61H 23/00 501 , A61H 33/02 , A61L 2/18 , B01D 35/027 , C02F 1/50 510 , C02F 1/50 520 , C02F 1/50 531 , C02F 1/50 560

FI (14件)：

A61H 33/00 G , A61H 33/00 F , A47K 3/00 F , A47K 3/00 K , A47K 3/00 L , A47K 3/00 M , A61H 23/00 501 , A61H 33/02 D , A61L 2/18 , C02F 1/50 510 A , C02F 1/50 520 L , C02F 1/50 531 M , C02F 1/50 560 Z , B01D 35/02 J

Fターム (21件)：

4C058AA07 , 4C058AA20 , 4C058BB07 , 4C058DD05 , 4C058DD07 , 4C058DD13 , 4C058JJ07 , 4C058JJ28 , 4C074LL01 , 4C074MM04 , 4C074QQ22 , 4C094AA01 , 4C094DD14 , 4C094EE22 , 4C094EE24 , 4C094FF09 , 4C094FF12 , 4D064AA11 , 4D064BF32 , 4D064BF39 , 4D064BF40

引用特許：

審査官引用 (8件)

気泡浴槽
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-238530 出願人：松下電工株式会社
特開平2-284612
特開平2-284612

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