特許

J-GLOBAL ID：200903072944728097

オフセット印刷方法及び印刷装置

発明者： 中山 隆雄
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-324133
公開番号（公開出願番号）：特開2002-127354
出願日： 2000年10月24日
公開日（公表日）： 2002年05月08日
要約：

【要約】【課題】アルカリ性現像液を必要とせず、簡易に製版できて、かつ印刷面の画像部と非画像部の識別性が改良された実用レベルの印刷画質を有し、さらに印刷用原板を反復して使用することも可能なオフセット印刷方法を提供すること。【解決手段】親水性表面を有するオフセット印刷用原板の表面にGnJM4-n (Gは疎水性有機基を示し、JはC、Si、Ge、Ti、Zr及びSnから選択される原子価4の元素を表し、Mはハロゲン又はアルコキシ基を表し、nは1〜3の整数を表す)で表される化合物を少なくとも一種含有する溶液をインクジェット方式によって像様に描画することによって疎水性の画像領域を形成させて印刷を行うオフセット印刷方法及び装置。また、印刷済みの印刷版面上のインクを洗浄除去後上記化合物を加熱分解して、再度その印刷原版を用いる印刷原板の再使用方法及び装置。

請求項（抜粋）：

親水性表面を有するオフセット印刷用原板の表面に少なくとも下記一般式(1)で表される化合物を含有する溶液をインキとしてインクジェット方式によって像様に描画することによって疎水性の画像領域を形成させ、該画像領域を印刷用インキに接触させることによって該領域がインキを受け入れた印刷面を形成させて印刷を行うことを特徴とするオフセット印刷方法。GnJM4-n (1)(式中、Gは疎水性有機基を示し、JはC、Si、Ge、Ti、Zr及びSnから選択される原子価4の元素を表し、Mはハロゲン又はアルコキシ基を表し、nは1〜3の整数を表す。)

IPC (8件)：

B41C 1/10 ,  B41F 7/02 ,  B41F 31/02 ,  B41F 35/02 ,  B41J 2/01 ,  B41M 1/06 ,  B41N 1/08 ,  B41N 1/14

FI (8件)：

B41C 1/10 ,  B41F 7/02 A ,  B41F 35/02 ,  B41M 1/06 ,  B41N 1/08 ,  B41N 1/14 ,  B41F 31/02 A ,  B41J 3/04 101 Z

Fターム (40件)：

2C034AA12 ,  2C034BA02 ,  2C056FB01 ,  2C056FB08 ,  2C250DB01 ,  2C250FA03 ,  2C250FB12 ,  2H084AA25 ,  2H084AE05 ,  2H084BB02 ,  2H084BB16 ,  2H084CC05 ,  2H113AA01 ,  2H113AA05 ,  2H113BA05 ,  2H113DA04 ,  2H113DA07 ,  2H113DA64 ,  2H113EA02 ,  2H113FA07 ,  2H113FA29 ,  2H114AA04 ,  2H114AA22 ,  2H114BA10 ,  2H114DA04 ,  2H114DA08 ,  2H114DA62 ,  2H114DA73 ,  2H114DA78 ,  2H114EA01 ,  2H114EA03 ,  2H114EA05 ,  2H114FA16 ,  2H114GA03 ,  2H114GA05 ,  2H114GA06 ,  2H114GA08 ,  2H114GA09 ,  2H114GA34 ,  2H114GA38