特許
J-GLOBAL ID:200903072946144599
複数の層を備える試料の光学パラメータを決定可能な非侵襲的センサ
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
川口 義雄 (外1名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-583421
公開番号(公開出願番号):特表2003-510556
出願日: 1999年11月10日
公開日(公表日): 2003年03月18日
要約:
【要約】試料、特に、複数の層を備える組織の試料の少なくとも1つの光学パラメータを非侵襲的に測定する装置および方法。少なくとも1つの光学パラメータは、組織の試料の着目する分析対象物質の存在または濃度を決定するために使用されてよい。本発明の装置および方法は、(1)組織の試料のより浅い層から実質的に反射、散乱、吸収または放出された光を測定し、(2)組織の試料のより深い層から実質的に反射、散乱、吸収、または放出された光を測定し、(3)これらの層のそれぞれの少なくとも1つの光学パラメータを決定し、(4)より深い層の少なくとも1つの光学パラメータに及ぼすより浅い層の影響を考慮する。サンプリング深度を特定することにより、組織の試料の特定の層、例えば、真皮の光学特性を決定でき、これらの決定において他の層、例えば、角質層および表皮からの干渉が低減される。
請求項(抜粋):
複数の層を備え、前記層のそれぞれが異なる特性をもつ試料の少なくとも1つの光学パラメータを決定する方法であって、 a)前記試料の表面上の光導入部位で前記試料に光ビームを導入するステップと、 b)少なくとも第1の光収集部位が前記試料の第1の層から主に再放出された光を収集し、少なくとも第2の光収集部位が前記試料の第2の層から主に再放出された光を収集し、前記第1の光収集部位が前記光導入部位から第1の距離にあり、前記第2の光収集部位が前記光導入部位から第2の距離にあり、前記第1の距離が前記第2の距離より短いものである、前記試料の前記表面上の複数の光収集部位で前記試料から再放出された光の強度を決定するステップと、 c)前記試料の前記第1の層の少なくとも1つの光学パラメータを決定するステップと、 d)前記試料の前記第2の層の少なくとも1つの光学パラメータを決定するステップとを含み、前記試料の前記表面から測定した場合の前記第1の層の平均深度が、前記試料の前記表面から測定した場合の前記第2の層の平均深度よりも浅い、試料の少なくとも1つの光学パラメータを決定する方法。
IPC (3件):
G01N 21/27
, A61B 5/145
, G01N 21/35
FI (3件):
G01N 21/27 Z
, G01N 21/35 Z
, A61B 5/14 310
Fターム (25件):
2G059AA01
, 2G059AA06
, 2G059BB12
, 2G059CC16
, 2G059EE01
, 2G059EE02
, 2G059EE11
, 2G059EE12
, 2G059GG01
, 2G059GG02
, 2G059HH01
, 2G059HH02
, 2G059HH06
, 2G059JJ17
, 2G059JJ22
, 2G059JJ24
, 2G059KK01
, 2G059KK04
, 2G059MM01
, 2G059MM03
, 4C038KK01
, 4C038KK10
, 4C038KL05
, 4C038KL07
, 4C038KX02
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