特許

J-GLOBAL ID：200903072959940645

浄化処理用のオゾン処理施設

発明者： 小松 直人 ,  中沢 正光 ,  塩野 繁男 ,  陰山 晃治 ,  柴田 文夫
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-171774
公開番号（公開出願番号）：特開平9-019695
出願日： 1995年07月07日
公開日（公表日）： 1997年01月21日
要約：

【要約】【目的】本発明の目的は、オゾン接触池の縮小化とグロー放電電力を低減した浄化処理用のオゾン処理施設を提供する。【構成】前記の課題を解決するために、本発明では、空気を酸素富化装置1で高濃度酸素にし、これをオゾン発生器3に送り込みオゾン濃度が30g/Nm3 以上又は30(g/Nm3)から80(g/Nm3)の範囲に発生させ、これらのオゾンをオゾン接触池4で散気させることにある。

請求項（抜粋）：

空気を酸素富化装置で高濃度酸素にし、これをオゾン発生器に送り込み高濃度オゾンを発生させ、オゾンをオゾン接触池で散気させるオゾン処理施設において、オゾン濃度を30g/Nm3 以上にしてオゾン接触池で散気させ、100%面積のオゾン接触池を60±10%までに縮小させることを特徴とする浄化処理用のオゾン処理施設。

IPC (3件)：

C02F 1/78 ,  C01B 13/10 ,  C01B 13/11

FI (3件)：

C02F 1/78 ,  C01B 13/10 D ,  C01B 13/11 L

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平2-211290
  
• 特開昭48-076780
  
• 特開昭61-071888