レーザー彫刻用印材

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：永田久喜
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-228268
公開番号（公開出願番号）：特開2001-047719
出願日： 1999年08月12日
公開日（公表日）： 2001年02月20日
要約：

【要約】【課題】同一性の担保、高い耐摩耗性、等々が求められる印鑑の材料の中、レーザー加工に適したもの、即ち、加工時に表面が燃えたり線がつぶれたりせず、またインク等の保持や浸透性に優れたものを提供する。【解決手段】主材であるポリマーがその分子内に、Si、C、H、O以外の原子を含まないものであって、該ポリマーは連続気孔体であり、気孔径が0.5〜60μであり、全体の気孔率が30〜80%であるもの。

請求項（抜粋）：

主材であるポリマーがその分子内に、Si、C、H、O以外の原子を含まないものであって、該ポリマーは連続気孔体であり、気孔径が0.5〜60μであり、全体の気孔率が30〜80%であることを特徴とするレーザー彫刻用印材。

前のページに戻る