特許
J-GLOBAL ID：200903072965762066
新規ケイ素ポリマーおよびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-122363
公開番号（公開出願番号）：特開2003-313295
出願日： 2002年04月24日
公開日（公表日）： 2003年11月06日
要約：
【要約】【課題】 光学特性に優れた新規ケイ素ポリマーおよびその製造方法を提供する。【解決手段】一般式(1)(化1)【化1】(化学式(1)において、R1、R2はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1から15のアルキル基、アルコキシ基であり、R3は特定の基を表す。)で表される新規ケイ素ポリマーおよびその製造方法。
請求項（抜粋）：
化学式(1)(化1)で表される繰り返し単位を有するケイ素ポリマー。【化1】(化学式(1)において、R1、R2はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1から15のアルキル基、アルコキシ基であり、R3は化学式(2)(化2)で表される2価の結合基を表し、これらから選ばれる1種または2種以上の結合基より構成される。【化2】化学式(2)において、X1は化学式(3)(化3)で表され、X2、X3はそれぞれ独立に化学式(4)(化4)で表される2価の結合基を表し、これらは異なっていても、一部または全てが同じでもよい。また、化学式(2)において、R4、R5、R6、R7は少なくとも1つが炭素数1〜6のアルキル基、アルコキシ基であり、他はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1から6のアルキル基、アルコキシ基である。また、R8、R9、R10、R11はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1から6のアルキル基、アルコキシ基である。)。【化3】【化4】
Fターム (7件)：
4J035BA02
, 4J035EA01
, 4J035EB01
, 4J035EB02
, 4J035EB04
, 4J035EB10
, 4J035LB20
