特許

J-GLOBAL ID：200903073010307085

マスクならびに露光装置および電子ビーム寸法ドリフト補正方法

発明者： 松岡 晃次
出願人/特許権者： 株式会社半導体先端テクノロジーズ
代理人 (1件)： 高田 守 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-191864
公開番号（公開出願番号）：特開2001-023878
出願日： 1999年07月06日
公開日（公表日）： 2001年01月26日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、可変成形電子ビーム描画方式の成形ビームの寸法ドリフト補正をスループットを低下させることなく実行できるマスクならびに露光装置および電子ビーム寸法ドリフト補正方法を得ることを課題とする。【解決手段】 第2開口3A上に設けられた電子ビーム寸法ドリフト補正用の開口部13Bと、当該電子ビーム寸法ドリフト補正用の開口部13Bの下方に設置された電子検出器5を備え、パターン描画中に当該電子ビーム寸法ドリフト補正用の開口部13Bを通過する電子ビームの量を電子検出器5でリアルタイムに検出し、当該電子検出器5で検出した電流量の変化に応じて上部の偏向器4A(第1偏向器)に偏向量にかかるフィードバックを行うことによって、露光時にリアルタイムで電子ビーム寸法のドリフトの補正を実行する。

請求項（抜粋）：

可変成形電子ビーム描画方式の成形ビームの寸法ドリフト補正をスループットを低下させることなく実行できるマスクであって、上段マスクを通過した第1の成形ビームをさらに所望の電子ビームサイズに成形して第2の成形ビームを生成する可変成形用の開口である第2開口と、当該上段マスクを通過した当該第1の成形ビームによって前記可変成形用の開口である第2開口と同時に照明される電子ビームドリフト検出用の開口である第3開口を有し、当該電子ビームドリフト検出用の開口である第3開口を当該可変成形用の開口である第2開口と別個に設けた構成を有することを特徴とするマスク。

IPC (6件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521 ,  H01J 37/09 ,  H01J 37/147

FI (6件)：

H01L 21/30 541 E ,  G03F 1/16 B ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521 ,  H01J 37/09 A ,  H01J 37/147 C

Fターム (19件)：

2H095BA08 ,  2H095BB02 ,  2H097BB03 ,  2H097CA16 ,  2H097JA02 ,  2H097KA38 ,  2H097LA10 ,  5C033BB02 ,  5C033GG03 ,  5F056AA04 ,  5F056AA06 ,  5F056BA01 ,  5F056BA05 ,  5F056BB01 ,  5F056CB16 ,  5F056CC02 ,  5F056EA06 ,  5F056FA05 ,  5F056FA07

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭54-100264
  
• 特開昭53-057760