特許
J-GLOBAL ID：200903073017228440
液晶光学素子の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
穂高 哲夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-127978
公開番号（公開出願番号）：特開平7-311394
出願日： 1988年07月26日
公開日（公表日）： 1995年11月28日
要約：
【要約】【目的】 厚いセルにおいてもリタデーション値が小さく、着色や色むらが少なく、双安定性に優れ、変形に対しての寸法、配向安定性に優れた液晶光学素子を歩止りよく低コストで製造できる製造方法を提供する。【構成】 強誘電性液晶物質と架橋性樹脂とを混合したものを電極付き基板の電極上に製膜し、次いで電極付き基板を積層し、架橋処理を行う液晶光学素子の製造方法。
請求項（抜粋）：
強誘電性液晶物質と架橋性樹脂とを混合したものを電極付き基板の電極上に製膜し、次いで電極付き基板を積層し、架橋処理を行うことを特徴とする液晶光学素子の製造方法。
IPC (3件)：
G02F 1/141
, G02F 1/1333
, C09K 19/54
