特許

J-GLOBAL ID：200903073022516950

基礎化粧料

発明者： 渡辺 博 ,  岡田 正紀
出願人/特許権者： ポーラ化成工業株式会社
代理人 (1件)： 遠山 勉 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-031639
公開番号（公開出願番号）：特開平6-247835
出願日： 1993年02月22日
公開日（公表日）： 1994年09月06日
要約：

【要約】【目的】 肌に滑らかさやしっとり感を付与する効果に優れ、かつ、皮膚への吸着性が高い基礎化粧料を提供する。【構成】 化1又は化2で表されるスルホン酸変性シリコーンを基礎化粧料に配合する。【化1】【化2】

請求項（抜粋）：

化1で表されるスルホン酸変性シリコーンを含有する基礎化粧料。【化1】ただし、R1はメチル基、フェニル基、R2はアリーレン基、アルキレン基、アルカリーレン基又はアラルキレン基、Aは水素原子、アルカリ金属、有機アミン塩を、m、nは各々10〜200、50〜2000の整数を表す。

IPC (4件)：

A61K 7/48 ,  A61K 7/00 ,  C08G 77/392 NUF ,  C08L 83/08 LRT