特許
J-GLOBAL ID：200903073033956811
電極パターン抵抗解析装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
梅田 勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-210127
公開番号（公開出願番号）：特開平7-063799
出願日： 1993年08月25日
公開日（公表日）： 1995年03月10日
要約：
【要約】【目的】 電極パターン解析装置において、電極パターン内部の抵抗値及び抵抗分布を効率的に解析する。【構成】 電極パターン解析装置において、プリプロセッサシステムでユーザーが電極パターンの領域を設定し、端子要素を指定し、パターン内部の任意の位置に任意個数の測定点を指定すると、解析システムで各測定点について測定円を作成し、電極パターン領域から測定円を除いた領域を解析領域に設定し、端子要素と測定円に電位差を与え、ポテンシャル解析により電流密度を求め、電位を与えた要素で積分して電流を求め、電位差/電流により端子要素から測定点までの抵抗を求め、ポストプリプロセッサシステムで解析結果の抵抗について、抵抗値及び抵抗分布の表示を行う。【効果】 電極パターン解析のための条件設定の簡略化、解析効率が向上する。
請求項（抜粋）：
プリプロセッサシステムと解析システムとポストプロセッサから構成される電極パターン抵抗解析装置において、(1)前記プリプロセッサシステムは形状データについて、電極パターンの外形を表す閉ループとその内側に含まれる全ての閉ループ(穴)に囲まれた領域の設定手段と、該設定手段により設定された電極パターン内部の任意の位置に任意個数の測定点、及び端子要素の指定をする手段と、該手段により指定された端子要素に電位を入力よりする手段とを有し、(2)前記解析システムは上記プリプロセッサシステムで設定された条件データについて、各々の測定点について、解析領域の作成手段及び境界要素法解析のために境界上の要素を更に細かい線分要素(メッシュ)に分割する手段と、ポテンシャル解析により解析領域の抵抗を求める手段とを有し、(3)前記ポストプロセッサシステムは、抵抗値の表示手段と抵抗分布の色分け表示手段とを有した構成からなることを特徴とする電極パターン抵抗解析装置。
IPC (2件)：
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