特許

J-GLOBAL ID：200903073048474597

研磨用組成物およびそれを用いたメモリハードディスク製造方法

発明者： ダブリゥ.スコット レィダー ,  デイビッド エム.シモ ,  大脇 寿樹
出願人/特許権者： フジミアメリカ インコーポレーテッド
代理人 (1件)： 佐々木 宗治 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-047486
公開番号（公開出願番号）：特開2001-288456
出願日： 2001年02月23日
公開日（公表日）： 2001年10月16日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 大きい研磨速度を有し、表面粗さが小さく、表面欠陥のない優れた表面をもたらす、メモリハードディスク研磨用組成物およびそれを用いた研磨方法を提供する。【解決手段】 メモリハードディスク研磨用組成物およびそれを用いた研磨方法であって、この研磨用組成物が少なくとも以下の構成要素(a)〜(c)を含むと共に、pH値が2〜7であることを特徴とするメモリハードディスク研磨用組成物。(a)前記研磨用組成物の全重量に対して0.1〜50%の、二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、窒化ケイ素および二酸化マグネシウムからなる群より選ばれる少なくとも一種類の研磨材、(b)前記研磨用組成物の全重量に対して、0.001〜10%の、過ヨウ素酸、過ヨウ素酸カリウム、過ヨウ素酸ナトリウムおよび過ヨウ素酸リチウムからなる群より選ばれる少なくとも一種類の過ヨウ素酸塩、(c)水。

請求項（抜粋）：

メモリハードディスク研磨用組成物であって、この組成物が、少なくとも以下の構成要素(a)〜(c)を含むと共に、pHが2〜7の範囲に調整されていることを特徴とする研磨用組成物。(a)研磨用組成物の全重量に対して、0.1〜50%の、二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、窒化ケイ素および二酸化マンガンからなる群より選ばれる少なくとも一種類の研磨材、(b)研磨用組成物の全重量に対して、0.001〜10%の、過ヨウ素酸、過ヨウ素酸カリウム、過ヨウ素酸ナトリウムおよび過ヨウ素酸リチウムからなる群より選ばれる少なくとも一種類の過ヨウ素酸塩、および、(c)水。

IPC (4件)：

C09K 3/14 550 ,  C09K 3/14 ,  B24B 37/00 ,  G11B 5/84

FI (4件)：

C09K 3/14 550 D ,  C09K 3/14 550 Z ,  B24B 37/00 H ,  G11B 5/84 A