特許

J-GLOBAL ID：200903073066509985

ポリエーテルイミド膜

発明者： ウデ・ショイネマン ,  グンサー・アッペル ,  カルステン・ブラッター
出願人/特許権者： ヘキスト・アクチェンゲゼルシャフト
代理人 (1件)： 湯浅 恭三 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-204413
公開番号（公開出願番号）：特開平9-103663
出願日： 1996年08月02日
公開日（公表日）： 1997年04月22日
要約：

【要約】【解決手段】 次式:【化1】(式中、R<SP>1</SP>,R<SP>2</SP>,R<SP>3</SP>及びR<SP>4</SP>は、互いに独立に、Hであるか、あるいはCH<SB>3</SB>,CF<SB>3</SB>又はC<SB>n</SB>H<SB>2n+1</SB>(ここでn<10である)である)の反復単位(A)50〜100重量%、及び次式:【化2】(式中、X<SB>1</SB>はm-フェニレン、p-フェニレン、又は以下の基【化3】のうちの1つである)の反復単位(B)0〜50重量%を含むポリイミドの分離層を有する膜。式(A)及び(B)の単位に加えて、上記の膜は、ジアミン単位及び/又は酸単位を更に含むことができ、また特に、分離層、欠陥の無い高度に透過性の中間層及び支持層から成る。酸素/窒素分離係数は、好ましくは5.5〜10である。

請求項（抜粋）：

次式:【化1】(式中、R<SP>1</SP>,R<SP>2</SP>,R<SP>3</SP>及びR<SP>4</SP>は、互いに独立に、Hであるか、あるいはCH<SB>3</SB>,CF<SB>3</SB>又はC<SB>n</SB>H<SB>2n+1</SB>(ここでn<10である)である)の反復単位(A)50〜100重量%、及び、次式:【化2】(式中、X<SB>1</SB>はm-フェニレン、p-フェニレン、又は以下の基【化3】のうちの1つである)の反復単位(B)0〜50重量%を含むポリイミドの分離層を有する膜。

IPC (4件)：

B01D 71/52 ,  B01D 69/12 ,  B01D 71/56 ,  B01D 71/70

FI (4件)：

B01D 71/52 ,  B01D 69/12 ,  B01D 71/56 ,  B01D 71/70