特許

J-GLOBAL ID：200903073072983923

走査露光方法及び走査露光装置

発明者： 今井 裕二
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-289183
公開番号（公開出願番号）：特開2003-115454
出願日： 1995年05月12日
公開日（公表日）： 2003年04月18日
要約：

【要約】【目的】 走査露光方式で露光する際に、走査速度を低くすることなく、正確にオートフォーカスを行うと共に、ウエハ表面の高さが大きく変化するような場合にも、全体としてオートフォーカスの追従精度を悪化させない。【構成】 露光フィールド24に対して計測方向に手前側で走査方向に交差する方向に配列された複数の計測点(AF21〜AF29)で計測したフォーカス位置に基づいて、Zレベリングステージを介してウエハ5のオートフォーカスを行う。この際に、計測された複数の計測点(AF21〜AF29)での高さの一部が許容範囲を超えて外れたときに、その許容範囲を外れた高さのデータを除外してウエハ5の高さ制御を行う。

請求項（抜粋）：

マスク上の転写用のパターンの一部を投影光学系を介して感光性の基板上の所定形状の露光領域に投影し、前記マスクを前記投影光学系に対して所定方向に走査するのと同期して前記基板を前記所定方向に対応する方向に走査することにより、前記マスクのパターンを逐次前記基板上に転写露光する走査露光方法において、前記露光領域に対して前記走査方向に手前側で前記走査方向に交差する方向に配列された複数の計測点で前記基板の前記投影光学系の光軸方向の高さを先読みし、該先読みされた高さに基づいて前記露光領域内の前記基板の高さを制御するに際して、該計測された複数の計測点での高さの一部が前記投影光学系の結像面に対して所定の許容範囲を超えて外れたときに、該許容範囲を外れた高さのデータを除外して前記基板の高さの制御を行うことを特徴とする走査露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/22

FI (3件)：

G03F 7/22 H ,  H01L 21/30 526 B ,  H01L 21/30 518

Fターム (11件)：

5F046AA18 ,  5F046BA05 ,  5F046CB17 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CC05 ,  5F046DA05 ,  5F046DA14 ,  5F046DB05 ,  5F046DC10 ,  5F046DD02