特許

J-GLOBAL ID：200903073075591074

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者： 佐々木 知也
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-293188
公開番号（公開出願番号）：特開2004-318046
出願日： 2003年08月13日
公開日（公表日）： 2004年11月11日
要約：

【課題】160nm以下、特にF2エキシマレーザー光(157nm)の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には157nmの光源使用時に十分な透過性を示し、解像性に優れ、現像欠陥、スカム(現像残渣)の発生が少ない、優れたポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】(A)下記の一般式(I)〜(III)から選択される少なくとも1つの繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び(B)活性光線又は放射線の作用により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)下記一般式(I)〜(III)から選択される少なくとも1つの繰り返し単位及び、下記一般式(A)で示される部分構造を有する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び、 (B)活性光線又は放射線の作用により酸を発生する化合物 を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (2件)：

G03F7/039 ,  H01L21/027

FI (2件)：

G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

Fターム (15件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025FA17

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 放射線感光材料及びそれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-282664   出願人：ダイセル化学工業株式会社
• WO-00/17712号パンフレット