特許
J-GLOBAL ID：200903073083083932
流体を使用したフォトリソグラフィ法及びそのシステム
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤村 元彦
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-552206
公開番号（公開出願番号）：特表2007-520893
出願日： 2005年02月03日
公開日（公表日）： 2007年07月26日
要約：
基板上のフォトレジストに使用するフォトリソグラフ露光システムは、照射システムと、1以上の対象パターンを有するフォトマスクと、投射光学露光システムと、流体分配システムとからなる。投射光学露光システムは、前記1以上の対象パターンのイメージを前記フォトレジストのイメージ面に向けて前記照射源からの前記放射線を使用して投影すべく配置されている。流体分配システムは、流体を前記投射光学露光システムと前記基板上の前記フォトレジストとの間に配置する。流体は、水の屈折率値より高い屈折率値を有し、且つ約180nmと約300nmとの間の波長においてミリメータ当たり0.8より低い吸光度を有している。
請求項（抜粋）：
基板上のフォトレジストに使用するフォトリソグラフ露光システムであって、前記システムは、
放射線の源を提供する照射システムと、
1以上の対象パターンを有するフォトマスクと、
前記1以上の対象パターンのイメージを前記フォトレジストのイメージ面に向けて前記照射源からの前記放射線を使用して投影すべく配置された投射光学露光システムと、
水の屈折率値より高い屈折率値を有し、且つ約180nmと約300nmとの間の波長においてミリメータ当たり0.8より低い吸光度を有している流体を、前記投射光学露光システムと前記基板上の前記フォトレジストとの間に配置する流体分配システムと、からなることを特徴とするシステム。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 515D
, G03F7/20 521
