特許

J-GLOBAL ID：200903073094346838

高輝度X線又はγ線の発生方法及び装置

発明者： 今崎 一夫
出願人/特許権者： 財団法人レーザー技術総合研究所
代理人 (1件)： 鎌田 文二 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-048641
公開番号（公開出願番号）：特開平7-110400
出願日： 1994年03月18日
公開日（公表日）： 1995年04月25日
要約：

【要約】【目的】 超高反射率ミラーを用いた光共振器でレーザー光を蓄積し、これを利用して小さな初期レーザーからでも強力な高輝度X線又はγ線を得る。【構成】 レーザー1からのレーザー光を光共振器2へ送りそこでレーザー光を蓄積する。光共振器2は超高反射率ミラー21、22を有し、ミラーの反射効率は0.999%以上のものである。この光共振器2へ電子ビームを斜めに入れて衝突させ、その相互作用域でコンプトン散乱によるX線又はγ線を発生させる。

請求項（抜粋）：

2つの超高反射ミラーを互いに対向して置いた光子蓄積空胴内にレーザー光を導入して空胴内に蓄積し、電子ビームを相対論的速度に加速した状態でミラー間を往復するレーザー光の光路に導入して光路に交差させその相互作用域からX線又はγ線を発生する高輝度X線又はγ線の発生方法。

IPC (4件)：

G21K 5/02 ,  H01L 21/027 ,  H01S 3/00 ,  H01S 3/0959

FI (2件)：

H01L 21/30 531 A ,  H01S 3/09 C