特許

J-GLOBAL ID：200903073104063562

イオン注入装置

発明者： 上田 康弘
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 志賀 富士弥 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-318022
公開番号（公開出願番号）：特開平6-168697
出願日： 1992年11月27日
公開日（公表日）： 1994年06月14日
要約：

【要約】【目的】 エネルギーコンタミネーション(EC)を抑制するイオン注入装置を提供する。【構成】 ファラデーカップ34からのECの情報により制御装置でアークフィラメント31のフィラメント電流を制御して、ビーム電流量を制御し、ECを一定化あるいはしきい値化する。また、ビームスキャン用電極33のスキャン速度を制御してウェハ面内のスキャンドーズ量を一定にする。

請求項（抜粋）：

注入イオンと異なるイオンの電荷を検出する検出手段と、該検出手段の検出結果に応じてビーム電流量を制御する制御手段とを有することを特徴とするイオン注入装置。

IPC (3件)：

H01J 37/317 ,  H01J 37/04 ,  H01L 21/265

FI (2件)：

H01L 21/265 D ,  H01L 21/265 T

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平4-282547
  
• 特開昭57-130358
  
• 特開平3-017947