特許

J-GLOBAL ID：200903073105055512

荷電粒子線転写露光装置

発明者： 中筋 護
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 渡部 温
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-031358
公開番号（公開出願番号）：特開2000-232052
出願日： 1999年02月09日
公開日（公表日）： 2000年08月22日
要約：

【要約】【課題】 減速電界に寄生する収差を比較的簡易な方法で処理できる荷電粒子線転写露光装置を提供する。【解決手段】 本露光装置は、ウエハ91上に転写すべきパターンを有するマスク51を照明する照明光学系と、マスク51を通過した荷電粒子線をウエハ91上に投影する投影光学系を備える。マスクと投影光学系(ライナーチューブ55)間、及び、投影光学系(ライナーチューブ77)とウエハ91間に減速電界が設けられていることを特徴とする。このため、マスク・投影光学系間の減速電界の有する凸レンズ作用に起因する収差と、投影光学系・ウエハ間の減速電界の有する凹レンズ作用に起因する収差の少なくとも一部同士を相殺でき、減速電界に寄生する収差を比較的簡易な方法で処理できる。

請求項（抜粋）：

感応基板上に転写すべきパターンを有するマスクを照明する照明光学系と、マスクを通過した荷電粒子線を感応基板上に投影する投影光学系と、を備える荷電粒子線転写露光装置であって;マスクと投影光学系間、及び、投影光学系と感応基板間に減速電界が設けられていることを特徴とする荷電粒子線転写露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  H01J 37/305

FI (4件)：

H01L 21/30 541 E ,  G03F 7/20 504 ,  H01J 37/305 B ,  H01L 21/30 541 V

Fターム (17件)：

2H097AA03 ,  2H097CA16 ,  2H097EA03 ,  2H097GB01 ,  2H097KA20 ,  2H097LA10 ,  5C034BB02 ,  5C034BB08 ,  5F056AA22 ,  5F056BA05 ,  5F056BD03 ,  5F056BD06 ,  5F056CB02 ,  5F056CB29 ,  5F056CB32 ,  5F056CD17 ,  5F056EA05