特許

J-GLOBAL ID：200903073122236598

ポジ型レジスト組成物

発明者： 青合 利明 ,  近藤 俊一 ,  山岡 亜夫
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-120919
公開番号（公開出願番号）：特開平10-312060
出願日： 1997年05月12日
公開日（公表日）： 1998年11月24日
要約：

【要約】【課題】 220nm以下の露光光源の使用時に、良好な感度、解像度を与え、更に十分な耐ドライエッチング性を有し、且つ基板との密着性が良好で、従来のレジストに使用していた現像液に対しても良好な現像性を示すポジ型レジスト組成物を提供することである。【解決手段】 活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、多環型の脂環式基とカルボキシル基を有する樹脂、及び特定の構造のエノールエーテル基を少なくとも2個有する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)多環型の脂環式基とカルボキシル基を有する樹脂、及び(C)下記一般式(I)で表される基を少なくとも2個有する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】式(I)中、R1 〜R3 は同じでも異なっていても良く、水素原子、置換基を有していても良い、アルキル基又はシクロアルキル基を表す。また、R1 〜R3の内の2つが結合して3〜8個の炭素原子、ヘテロ原子から成る環構造を形成しても良い。Zは酸素原子、イオウ原子、-SO2 -又は-NH-を示す。

IPC (4件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R