特許

J-GLOBAL ID：200903073123894670

X線発生装置、及びこれを用いた露光装置やデバイス生産方法

発明者： 三宅 明 ,  塚本 雅美
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 丸島 儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-272727
公開番号（公開出願番号）：特開平9-115813
出願日： 1995年10月20日
公開日（公表日）： 1997年05月02日
要約：

【要約】【課題】 良好な結像性能を得ることを可能とするX線発生装置やこれを用いた高性能な露光装置などを提供すること。【解決手段】 レーザープラズマ光源を用いたX線発生装置において発光点部の形態(形状、大きさ、位置など)を変化させ、ここから発生するX線でマスク等の物体をケーラー照明する。

請求項（抜粋）：

発光部の形態が可変であることを特徴とするX線発生装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  H01J 35/22 ,  H05G 1/00 ,  H05G 2/00

FI (4件)：

H01L 21/30 531 A ,  H01J 35/22 ,  H05G 1/00 E ,  H05G 1/00 K

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭62-126532
  
• 照明装置及び露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-289386   出願人：株式会社ニコン