特許

J-GLOBAL ID：200903073127082220

ドレン溜付きアニール処理装置

発明者： 河原 勝
出願人/特許権者： 株式会社協真エンジニアリング
代理人 (6件)： 社本 一夫 ,  増井 忠弐 ,  小林 泰 ,  千葉 昭男 ,  富田 博行 ,  竹内 茂雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-101651
公開番号（公開出願番号）：特開2004-311636
出願日： 2003年04月04日
公開日（公表日）： 2004年11月04日
要約：

【課題】アニール処理装置の圧力容器には、アニール処理に際して使用するスチームが漏洩し結露したドレンが溜まるドレン溜は存在していなかったため、反応容器18の空焚きを行ない、反応容器の破損等の甚大な損害や、アニール作業のやり直し、又は多大な不良品の発生等を発生することがあった。【解決手段】アニール処理装置の圧力容器に、アニール処理に際して使用するスチームが漏洩した場合、それが結露してドレンとなって溜まるドレン溜27を設けた。また、ドレン溜27内にスイッチ手段28を設けた。スイッチ手段28はドレン溜27の夫々異なる深さ位置にセットした複数個のフロートスイッチ28a、28b、28c、28dにより構成されている。スイッチは互にシーケンス制御されており、各スイッチが作動する時間差が判別され、これによりドレン溜27内に流れ込む時間当たりのドレンの量が分かる。【選択図】 図4

請求項（抜粋）：

高温高圧下で純水を使用してワークへ酸化膜を形成するアニール水蒸気処理装置であって、 圧力容器15と、 圧力容器15内にシール手段により密封支持されており、内部にワークを収容してアニール処理を行なうためのアニール処理室19及び内部に純水を収容する純水保持室20を有している反応容器18と、 圧力容器15と反応容器18との間に配置されている加熱手段と、 を有しており、 圧力容器15が下底部に溜部27を有していることを特徴とするアニール水蒸気処理装置。

IPC (1件)：

H01L21/31

FI (1件)：

H01L21/31 A

Fターム (10件)：

5F045AA20 ,  5F045AB32 ,  5F045AE30 ,  5F045AF03 ,  5F045AF07 ,  5F045CA15 ,  5F045DP19 ,  5F045EB02 ,  5F045EC01 ,  5F045GB04

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 加圧式加熱炉
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-155466   出願人：石川島播磨重工業株式会社