特許

J-GLOBAL ID：200903073145934420

投影露光装置

発明者： 高橋 哲男
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 井上 義雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-199055
公開番号（公開出願番号）：特開2001-077017
出願日： 2000年06月30日
公開日（公表日）： 2001年03月23日
要約：

【要約】【課題】反射屈折型の投影光学系を有する投影露光装置において、露光光が短波長化、特に200nmよりも短い場合でもフレア光の発生を防止でき、良好なコントラストでパターンを基板上に投影することができる投影露光装置を提供すること。【解決手段】 所定のパターンを有するマスクRを所定波長の照明光で照明する照明光学系ISと、前記マスク上のパターンを基板W上に投影する投影光学系PLとを有する投影露光装置において、前記投影光学系は、少なくとも第1の反射面R1と第2の反射面R2とを有し、前記第1及び第2の反射面のうちの少なくとも一方は正の屈折力を有し、前記第1及び第2の反射面は光軸AX近傍に設けられて光を通過させる開口部AP1,AP2を有し、前記第1及び第2の反射面のうちの少なくとも何れか一方の反射面の前記所定波長に対する反射率は95%以下である。

請求項（抜粋）：

所定のパターンを有するマスクを所定波長の照明光で照明する照明光学系と、前記マスク上のパターンを基板上に投影する投影光学系とを有する投影露光装置において、前記投影光学系は、少なくとも第1の反射面と第2の反射面とを有し、前記第1及び第2の反射面のうちの少なくとも一方は正の屈折力を有し、前記第1及び第2の反射面は光軸近傍に設けられて光を通過させる開口部を有し、前記第1及び第2の反射面のうちの少なくとも何れか一方の反射面の前記所定波長に対する反射率は95%以下であることを特徴とする投影露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G02B 17/08 ,  G03F 7/20 521

FI (4件)：

H01L 21/30 515 D ,  G02B 17/08 Z ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 517