特許
J-GLOBAL ID:200903073163005240
テラヘルツ波透過用光学部品、テラヘルツ波光学系、テラヘルツ帯波処理装置および同方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
福森 久夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-107885
公開番号(公開出願番号):特開2004-317573
出願日: 2003年04月11日
公開日(公表日): 2004年11月11日
要約:
【課題】コストが低く、製造が簡単なテラヘルツ帯波の透過特性に優れたテラヘルツ帯波処理装置を得る。【解決手段】本テラヘルツ帯波処理装置は、所定のテラヘルツ波を発生するテラヘルツ波発生装置10と、発生されたテラヘルツ波の進行方向の前面に設けられた高機能樹脂により構成されたオプティクス光学面とを有している。より具体例として、オプティクス光学面として光半透過板4を構成する。テラヘルツ波発生装置10との間の光軸を第1の光透過規制器1で規制して光軸上のテラヘルツ波を透過させ、且つ所定の入射角度を有して入射される光を光半透過板4で反射させる。さらに、光半透過板4とSiボロメーターとの間の光軸上に第2の光透過規制器2、3が設定される。所定の可視光をパイロット光12として光半透過板4へ入射して、この光半透過板4により反射させ、該反射させた可視光の光軸をテラヘルツ波11の光軸へ重畳させる。この結果、テラヘルツ波11の光軸を可視光により模擬的に目視可能とする。【選択図】 図3
請求項(抜粋):
シクロオレフィンからなることを特徴とするテラヘルツ波透過用光学部品。
IPC (5件):
G02B1/04
, G01N21/35
, G02B5/08
, G02B5/30
, H01S1/02
FI (5件):
G02B1/04
, G01N21/35 Z
, G02B5/08 A
, G02B5/30
, H01S1/02
Fターム (24件):
2G059AA05
, 2G059GG01
, 2G059GG06
, 2G059GG10
, 2G059HH01
, 2G059HH02
, 2G059HH06
, 2G059JJ01
, 2G059JJ07
, 2G059JJ11
, 2G059JJ12
, 2G059JJ13
, 2G059JJ17
, 2G059JJ19
, 2G059JJ22
, 2G059KK01
, 2G059LL01
, 2H042DA01
, 2H042DA11
, 2H042DB01
, 2H042DB02
, 2H049BA05
, 2H049BB48
, 2H049BC25
引用特許:
出願人引用 (1件)
-
マイクロ波デバイス
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-206123
出願人:オリンパス光学工業株式会社
審査官引用 (1件)
-
マイクロ波デバイス
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-206123
出願人:オリンパス光学工業株式会社
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