特許

J-GLOBAL ID：200903073172063333

偏光ビームスプリッタ、投射型表示装置用光学装置、投射型表示装置及び偏光ビームスプリッタの製造方法

発明者： 佐藤 正聡
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 井上 義雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-000720
公開番号（公開出願番号）：特開2002-207120
出願日： 2001年01月05日
公開日（公表日）： 2002年07月26日
要約：

【要約】【課題】高い偏光分離比を有し、使用波長の帯域幅が広い偏光ビームスプリッタなどを提供すること【解決手段】第1プリズム103Aの所定面103Gに形成され第1波長領域(420nm)のS偏光を反射する第1群膜103PAと、前記第1群膜103PAの上に重ねて形成され前記第1波長領域(420nm)よりも長波長側の第2波長領域(600nm)のS偏光を反射する第2群膜103PBとを有する第1プリズム103Aと、前記第1群膜103PA及び前記第2群膜103PBを介して前記第1プリズム103Aに固着される第2プリズム103Bとを有する。

請求項（抜粋）：

第1プリズムの所定面に形成され第1波長領域のS偏光を反射する第1群膜と、前記第1群膜の上に重ねて形成され前記第1波長領域よりも長波長側の第2波長領域のS偏光を反射する第2群膜とを有する第1プリズムと、前記第1群膜及び前記第2群膜を介して前記第1プリズムに固着される第2プリズムと、を有することを特徴とする偏光ビームスプリッタ。

IPC (5件)：

G02B 5/30 ,  G02B 5/04 ,  G03B 21/00 ,  G03B 21/14 ,  H04N 5/74

FI (5件)：

G02B 5/30 ,  G02B 5/04 D ,  G03B 21/00 D ,  G03B 21/14 A ,  H04N 5/74 A

Fターム (18件)：

2H042CA10 ,  2H042CA14 ,  2H042CA15 ,  2H042CA16 ,  2H049BA05 ,  2H049BA06 ,  2H049BA43 ,  2H049BB03 ,  2H049BB51 ,  2H049BC14 ,  2H049BC22 ,  5C058EA01 ,  5C058EA02 ,  5C058EA12 ,  5C058EA13 ,  5C058EA14 ,  5C058EA26 ,  5C058EA42