特許
J-GLOBAL ID：200903073176191700
ウエハ-及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
川瀬 茂樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-178064
公開番号（公開出願番号）：特開平8-195367
出願日： 1995年06月20日
公開日（公表日）： 1996年07月30日
要約：
【要約】【目的】 従来、ダイヤモンドのようにバルクの結晶を作りにくい材料に関して広い面積の基板が存在しなかった。ダイヤモンドの大面積エピタキシャルウエハを提供することが本発明の目的である。【構成】 広い面積を有する既存のウエハの上に、ダイヤモンド膜を膜側が凸になるように気相成長させる。膜側が凸である複合材料をホルダ-面が傾き得るようにした研磨装置によて研磨し、薄膜の前面を研磨する。これにより反りのある平滑なダイヤモンドの大面積のミラ-ウエハを得ることができる。
請求項（抜粋）：
僅かな反りのあるダイヤモンド以外の材料よりなる基板と、基板の上にヘテロエピタキシャル成長させかつ研磨によりRmax500Å(50nm)、Ra200Å(20nm)以下の面粗度にしたダイヤモンド膜とからなり、膜側に凸に反り、周辺部の中央部に対する高さΔHが、-150μm≦ΔH≦-2μmであるようにしたことを特徴とするウエハ-。
IPC (5件)：
H01L 21/304 321
, H01L 21/304
, B24B 1/00
, H01L 21/02
, H01L 21/205
