特許

J-GLOBAL ID：200903073178044799

水素発生装置及び水素発生方法並びに水素回収装置及び水素回収方法

発明者： 蒲地 厚志 ,  伊丹 俊輔
出願人/特許権者： 本田技研工業株式会社
代理人 (1件)： 磯野 道造
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-294898
公開番号（公開出願番号）：特開2004-131306
出願日： 2002年10月08日
公開日（公表日）： 2004年04月30日
要約：

【課題】効率よく水素を回収可能な水素発生装置及び水素発生方法を提供する。【解決手段】含水素原料を脱水素触媒の存在下に脱水素反応させるための脱水素触媒層10を有する反応室1と、前記脱水素触媒層の上方に気密に設けられた前記脱水素反応で生じた水素と副生成物との混合物から水素を分離するための水素分離膜2と、前記水素分離膜に透過した水素を回収するための回収室3とから構成された水素発生装置であって、前記水素分離膜2の上方は、所定の厚さの液膜30で覆われていることを特徴とする。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

脱水素反応により水素と副生成物とを生成する含水素原料を脱水素触媒の存在下に脱水素反応させるための脱水素触媒層を有する反応室と、 前記脱水素触媒層の上方に気密に設けられた前記脱水素反応で生じた水素と副生成物との混合物から水素を分離するための水素分離膜と、 前記水素分離膜を透過した水素を回収するための回収室とから構成された水素発生装置であって、 前記水素分離膜の上方は、所定の厚さの液膜で覆われていることを特徴とする水素発生装置。

IPC (4件)：

C01B3/22 ,  B01D53/22 ,  B01D69/00 ,  C01B3/56

FI (4件)：

C01B3/22 A ,  B01D53/22 ,  B01D69/00 500 ,  C01B3/56 Z

Fターム (17件)：

4D006GA41 ,  4D006MA03 ,  4D006MA18 ,  4D006PA03 ,  4D006PB18 ,  4D006PB66 ,  4D006PC69 ,  4G140DA01 ,  4G140DA03 ,  4G140DB05 ,  4G140FA02 ,  4G140FB09 ,  4G140FC01 ,  4G140FE06 ,  5H026AA06 ,  5H027AA06 ,  5H027BA16