特許
J-GLOBAL ID:200903073178272228

滴定方法および装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鎌田 文二 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-312426
公開番号(公開出願番号):特開2000-146943
出願日: 1999年11月02日
公開日(公表日): 2000年05月26日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】滴定の速度と正確さを改善できる滴定方法及び装置を提供する。【解決手段】滴定液の増分を時間間隔をあけて滴加して物質の滴定を行う方法において、反応過程が終点に達するまでの状況を監視することによって滴定液の滴加を制御する。反応過程から少なくとも1つの示差成分を決定し、その示差成分を用いて滴定液の滴加を制御する。この方法は、滴定液を送り出すためのユニットと、監視と微分と制御機能を実行するための適当な手段を含む装置で実行することができる。
請求項(抜粋):
滴定液を時間間隔t4、t5、t6で段階的に滴加することによって物質を滴定する方法であって、物質と滴定液との反応過程を滴定曲線で表わし、その滴定曲線が終点EPに至るまでの過程を監視し、滴定液の滴加量を制御し、滴定の速度を決定するパラメータとして滴定液の個々の増分と時間間隔t4、t5、t6を用いる滴定方法において、滴定液の滴加を制御するために少なくとも1つの示差成分に基づく制御関数を用いることを特徴とする滴定方法。
IPC (2件):
G01N 31/16 ,  G01N 27/44 301
FI (2件):
G01N 31/16 A ,  G01N 27/44 301

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