特許

J-GLOBAL ID：200903073180764723

半導体装置

発明者： 江口 晃
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 恩田 博宣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-118882
公開番号（公開出願番号）：特開平9-306910
出願日： 1996年05月14日
公開日（公表日）： 1997年11月28日
要約：

【要約】【課題】不良解析作業時に基板上の不良箇所を顕微鏡で容易に検索可能とした半導体装置を提供する。【解決手段】半導体装置の基板6上には同一のパターンPが繰り返しレイアウトされる。基板6上には、各パターンPを検索するための基準位置となる目印2が設けられる。

請求項（抜粋）：

基板上に同一のパターンが繰り返しレイアウトされる半導体装置であって、前記基板上には、前記各パターンを検索ための基準位置となる目印を設けたことを特徴とする半導体装置。

IPC (4件)：

H01L 21/3205 ,  H01L 21/66 ,  H01L 27/04 ,  H01L 21/822

FI (4件)：

H01L 21/88 Z ,  H01L 21/66 Y ,  H01L 21/66 A ,  H01L 27/04 D