特許
J-GLOBAL ID：200903073182344209
基板のクリーニング方法およびその装置
発明者：
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
樺澤 襄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-325387
公開番号（公開出願番号）：特開平7-181467
出願日： 1993年12月22日
公開日（公表日）： 1995年07月21日
要約：
【要約】【目的】 クリーン度を低下させることなく基板をクリーニングする基板のクリーニング装置を提供する。【構成】 ステージ14上のダミープレート18,19間にガラス基板Gを真空吸着より保持する。ステージ14ごとガラス基板Gが移動し、クリーニングヘッド11のプレッシャー側ノズル12から吹き出した高速度の空気を、ガラス基板Gの表面に衝突させ、ガラス基板Gの表面上の塵埃を除去すると同時にバキューム側ノズル13から吸い込ませ、付着物を除去する。ガラス基板Gのクリーニングの前後では、クリーニングヘッド11のプレッシャー側ノズル12とバキューム側ノズル13とを、ガラス基板Gの厚さと同じ間隙でシャッタ16,17が閉塞しているため、プレッシャー側ノズル13から吹き出される高速度の空気を、シャッタ16,17で反射してバキューム側ノズル13から吸い込み、クリーン度の低下を防止する。
請求項（抜粋）：
基板の表面に高速度の空気を吹き付け、この吹き付けられた空気を前記基板の表面で反射して吹き付けられた空気に対応して空気を塵埃とともに吸い込む基板のクリーニング方法において、前記基板に高速度の空気を吹き付ける前後では、空気の吹き付けを反射させて吸い込ませることを特徴とする基板のクリーニング方法。
IPC (4件)：
G02F 1/1333 500
, B08B 5/00
, B08B 11/04
, G02F 1/13 101
