特許
J-GLOBAL ID：200903073208830450
プラズマ電極装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
蔦田 璋子 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-276121
公開番号（公開出願番号）：特開平6-124906
出願日： 1992年10月14日
公開日（公表日）： 1994年05月06日
要約：
【要約】【目的】 CVD、エッチング、アッシング、その他の表面処理において、より均一な処理面の得られるプラズマ電極装置を提供する。【構成】 RF電極またはアース電極のどちらか一方の、基板と相対向する面に、内径デバイ長さ以下の複数のガス排気口を全面にわたって分布させる。
請求項（抜粋）：
RF電極またはアース電極のどちらか一方の、基板と相対向する面に、内径がデバイ長さ以下の複数のガス排気口を全面にわたって分布させることを特徴とするプラズマ電極装置。
IPC (4件)：
H01L 21/205
, C23C 16/50
, H01L 21/302
, H05H 1/46
