測定用マスク装置、光学特性測定方法及び光学特性測定装置、光学系の調整方法、並びに露光装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：立石篤司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-067107
公開番号（公開出願番号）：特開2003-262948
出願日： 2002年03月12日
公開日（公表日）： 2003年09月19日
要約：

【要約】【課題】被検光学系の光学特性を精度良く測定する。【解決手段】測定用マスク装置の光拡散部材、測定用マスク装置の測定用マスクに形成された較正用開口パターンPHCj、及び被検光学系を順次介した光を測定用光学系により波面分割して複数の較正用パターン像が形成される。引き続き、複数の較正用パターン像それぞれの位置情報に基づいて、測定用光学系の光学特性を算出する。そして、較正用開口パターンPHCjを通過する光が介する光拡散面DFSの領域ARCjと共通領域CARjkを有する光拡散面DFSの領域ARMjkを介した光が通過する測定用開口パターンPHMjkを使用して行われる被検光学系の光学特性の測定結果を、算出された測定用光学系の光学特性によって補正することにより、被検光学系の光学特性を精度良く測定することができる。

請求項（抜粋）：

測定用の光が被検光学系に入射する前に、順次経由する光拡散部材及び測定用マスクを備える測定用マスク装置において、前記測定用マスクには、前記被検光学系の光学特性を測定する時に使用される測定用開口パターンと、前記被検光学系の光学特性を測定する測定用光学系を較正する時に使用される較正用開口パターンとが形成され、前記測定用開口パターンから前記被検光学系の入射側開口数で見込まれる前記光拡散部材の光拡散面における第1領域と、前記較正用開口パターンから前記被検光学系の入射側開口数で見込まれる前記光拡散部材の光拡散面における第2領域とが、少なくとも一部重複する、ことを特徴とする測定用マスク装置。

IPC (5件)：

G03F 1/08 , G01M 11/02 , G02B 13/24 , G03F 7/20 521 , H01L 21/027

FI (6件)：

G03F 1/08 P , G01M 11/02 B , G02B 13/24 , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 515 D , H01L 21/30 515 F

Fターム (11件)：

2G086HH06 , 2H087KA21 , 2H087NA01 , 2H095BE05 , 2H095BE08 , 2H095BE09 , 5F046AA25 , 5F046BA03 , 5F046CB25 , 5F046DA12 , 5F046DB05

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