特許
J-GLOBAL ID：200903073228586970
微量汚染状態調査方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 敬四郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-267265
公開番号（公開出願番号）：特開平8-128962
出願日： 1994年10月31日
公開日（公表日）： 1996年05月21日
要約：
【要約】【目的】 環境の汚染状態を高感度にかつ簡便に調査する方法を提供する。【構成】 汚染状態を調査すべき空間にシリコン基板を配置し、一定期間放置する工程と、シリコン基板の表面を水にさらす工程と、シリコン基板の表面に付着しているパーティクルを検出する工程とを含む。水にさらす工程で、シリコン基板の表面を水にさらしつつ物理的に摩擦してもよい。
請求項（抜粋）：
汚染状態を調査すべき空間にシリコン基板を配置し、一定期間放置する工程と、前記シリコン基板の表面を水にさらす工程と、前記シリコン基板の表面に付着しているパーティクルを検出する工程とを含む汚染状態調査方法。
IPC (4件)：
G01N 21/88
, G01V 8/10
, H01L 21/02
, H01L 21/66
