特許
J-GLOBAL ID:200903073234940557

レーザ転写加工装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 田澤 博昭 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-092716
公開番号(公開出願番号):特開平7-290264
出願日: 1994年04月28日
公開日(公表日): 1995年11月07日
要約:
【要約】【目的】 高い光利用効率を有し且つ加工時間を短縮化できるレーザ転写加工装置を得ることを目的とする。【構成】 レーザ転写加工装置は、通過するレーザビームが所望の加工形状に対応したパターン形状を有するようにレーザビームを整形すべく所定のパターンが形成されたマスク6と、マスク6を通過したレーザビームから、それぞれがパターン形状を有しており且つ被加工物に対する放射方向がそれぞれ規定されている複数のレーザビームを同時に生成し、遠視野で所望の加工パターンに対応した複数のレーザビームによる転写像を任意の位相で結像するフーリエ変換型ホログラム5とを備えている。
請求項(抜粋):
レーザ光源より放射されるレーザビームを用いて被加工物上に加工を行うためのレーザ転写加工装置において、前記被加工物上に形成する所望の加工形状に対応したパターン形状を有するようにレーザビームを整形するための整形手段と、前記整形手段とは別個に設け、前記整形手段によって整形されたレーザビームから、それぞれが前記パターン形状を有する複数のレーザビームを前記被加工物に対する複数の放射方向を同時に規定して生成する生成手段とを備えたことを特徴とするレーザ転写加工装置。
IPC (4件):
B23K 26/06 ,  B23K 26/00 330 ,  G03H 1/22 ,  H05K 3/00

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