特許
J-GLOBAL ID：200903073235427772

安定性の良好なアミドアミンオキシド化合物の製造方法及びそれから得られる界面活性組成物

発明者：
森田 英夫

森田 英夫 について

, 
千葉 陽子

千葉 陽子 について


出願人/特許権者：
川研ファインケミカル株式会社

川研ファインケミカル株式会社 について


代理人 (1件)： 石田 敬 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-255339
公開番号（公開出願番号）：特開平11-152260
出願日： 1998年09月09日
公開日（公表日）： 1999年06月08日
要約：
【要約】【課題】 色・香りの経時変化のないアミドアミンオキシド化合物の製造方法及びそれを含む組成物の提供。【解決手段】 下記式(1)アミドアミン化合物を、下記式(3)の有機スルホン酸又はその塩の存在下に、過酸化水素により酸化して、下記式(2)のアミドアミンオキシドを製造し、それによって得られる式(2)及び(3)の化合物の混合物を、界面活性組成物、特に洗浄剤組成物の成分として利用する。【化1】
請求項（抜粋）：
下記一般式(1):【化1】〔但し、式(1)において、R3 は炭素原子数が7〜21のヒドロキシル基置換又は未置換のアルキル基又はアルケニル基を表し、R4 及びR5 は、それぞれ互に独立に、炭素原子数が1〜5の、ヒドロキシル基置換又は未置換のアルキル基又はアルケニル基を表し、nは1〜5の整数を表す。〕により表されるアミドアミン化合物に過酸化水素を反応させて、下記式(2):【化2】〔但し、式(2)において、R3 ,R4 ,R5 及びnは前記に同じ〕により表されるアミドアミンオキシド化合物を製造するに際し、前記反応系中に、下記式(3):【化3】〔但し、上式(3)中、R1 は水素原子または、炭素原子数が1〜3の低級アルキル基を表し、M1 ,M2 ,M3 及びM4 は、それぞれ他から独立に、水素原子又はアルカリ金属原子を表す。〕により表される有機ホスホン酸又はその塩を、前記一般式(1)のアミドアミン化合物の仕込みモル量に対し、0.1〜1.5モル%の添加量で存在させることを特徴とする、安定性の良好なアミドアミンオキシド化合物の製造方法。
IPC (5件)：
C07C291/04 ,  B01J 31/02 103 ,  C11D 1/75 ,  C11D 3/36 ,  C07B 61/00 300
FI (5件)：
C07C291/04 ,  B01J 31/02 103 X ,  C11D 1/75 ,  C11D 3/36 ,  C07B 61/00 300
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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