特許
J-GLOBAL ID：200903073242760827
基板洗浄方法及び装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-008454
公開番号（公開出願番号）：特開平10-209097
出願日： 1997年01月21日
公開日（公表日）： 1998年08月07日
要約：
【要約】【課題】 基板の主面に付着した油脂成分や粘着力の強いパーティクルを十分に除去すること。【解決手段】 投入部10から投入された基板Wは、紫外線照射部20で紫外線照射処理が行われる。紫外線照射処理後の基板Wは、イオン化気体吹付部30でイオン化された気体を吹き付けるイオン化気体吹付処理が行われる。イオン化気体吹付処理後の基板Wは、洗浄液処理部40で純水を用いたブラシ洗浄等の処理が行われ、払出部50から搬出される。イオン化エアーガン37からは、イオン化エアーが噴射され、基板Wの上側主面に付着したイオン化したパーティクルは、イオン化エアー中のイオンの反発力や吸引力を受けて基板Wから効率的に剥離される。しかも、基板Wの主面をイオン化エアーにさらす前に、予め基板Wの主面に紫外線を照射してパーティクルを付着させている油脂成分を灰化するので、イオン化エアーによって基板の主面に付着したパーティクルを除去し易くなる。
請求項（抜粋）：
基板の主面に紫外線を照射する紫外線照射工程と、紫外線照射工程後の基板の主面にイオン化された気体を吹き付けるイオン化気体吹付工程と、を含むことを特徴とする基板洗浄方法。
IPC (2件)：
H01L 21/304 341
, B08B 7/00
H01L 21/304 341 D
, B08B 7/00
