特許

J-GLOBAL ID：200903073249051392

スパッタリング用ターゲットとこれを用いたカラーフィルタ用ブラックマトリクスの製造方法

発明者： 吉田 一明 ,  伊藤 雅紀
出願人/特許権者： エスティーアイテクノロジー株式会社
代理人 (1件)： 深井 敏和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-126169
公開番号（公開出願番号）：特開2000-319776
出願日： 1999年05月06日
公開日（公表日）： 2000年11月21日
要約：

【要約】【課題】 特にターゲット交換初期のスパッタリングで多発するピンホールの発生が抑制されたスパッタリング用ターゲットとこれを用いたカラーフィルタ用ブラックマトリクスの製造方法を提供することである。【解決手段】 ターゲット表面のエロージョン領域13の中心線平均粗さRaを1.0μm以下とし、ターゲット中央部および外周部の非エロージョン領域11,12を中心線平均粗さRaが1.5μ m以上の粗面とするか、あるいはターゲット中央部の非エロージョン領域12を中心線平均粗さRaが1.5μm以上の粗面としかつ外周部の非エロージョン領域12内のターゲット材を除去したスパッタリング用ターゲットであり、このターゲットを使用してスパッタリングにより基板上にブラックマトリクスを作製することができる。

請求項（抜粋）：

ターゲット表面にエロージョン領域と非エロージョン領域とを有するスパッタリング用ターゲットにおいて、前記エロージョン領域の中心線平均粗さRaを1.0μm以下とし、前記非エロージョン領域の中心線平均粗さRaを1.5μm以上としたことを特徴とするスパッタリング用ターゲット。

Fターム (9件)：

4K029BC07 ,  4K029BD00 ,  4K029CA06 ,  4K029DA02 ,  4K029DA04 ,  4K029DC03 ,  4K029DC12 ,  4K029DC21 ,  4K029DC39